科学研究
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微纳光学公共平台

   微纳光学公共平台为伟德BETVLCTOR1946下设科研机构，依托于江苏省“微纳光学”优势学科（2010批准建立）、江苏省现代光学技术重点实验室（2000年批准建立）、省部共建教育部现代光学技术重点实验室（2003年批准建立）、江苏省先进光学制造技术重点实验室（2007年批准建立），主要从事先进光学设计与制造、微纳制造技术与装备、光子器件及其相关领域关键技术的研究与产业化应用。


 

   平台实验室总面积达5000平方米，其中千级超净间面积超3000平方米。目前拥有聚焦离子束刻蚀（Crossbeam550）、扫描电镜（Sigma 300）、原子力显微镜（Dimensioin Icon）、大型紫外光激光直写3D光刻设备（iGrapher）等一系列微纳加工、制造先进设备。本平台现热忱欢迎科研院所、企事业单位和社会各界的专业人士光临，我们将竭诚为您提供专业服务与高质量的测试结果，希望能与您共同努力，充分发挥大型仪器资源共享的作用，联手为企事业与院校发展、地方经济建设等服务。欢迎有意向的单位及个人和我们联系：

                           电子邮件:    nanoplatform@suda.edu.cn

                           联系电话：（0512） 65223039

                           联系人：     毕老师



相关科研成果及部分仪器设备展示

近5年来，以本平台为依托，累计发表重要论文500余篇，申请并获得100余项各类科研项目资助（其中国家级项目30余项，省部级项目20余项），获包括国家科技进步二等奖在内的多项国家、省部级奖。研究成果被各国内外知名企业采用，促进了相关行业技术进步，经济效益显著。

在自主知识产权方面，申请国家发明专利授权60余项，完成重要项目鉴定和验收10余项，部分成果已完成行业转化。

聚焦离子束共焦刻蚀系统（FIB-SEM)

型号：Crossbeam 550

厂家：德国Zeiss

主要规格及技术指标：

  1. 扫描电子显微镜分辨率：1.6nm@1.5KV，0.9nm@15KV，0.7nm@30KV；

  2. 离子束刻蚀分辨率：小于3nm；

  3. 存储分辨率：32K×24K；

  4. 样品台运动行程：X-Y方向：100/153mm，z方向：50mm，z’方向：13/20mm，T=-4至70度，360度旋转；

  5. 单支气体注入系统：Pt、C；

  6. 多支气体注入系统：Pt、C、W、Au、H2O、SiOX、XeF2。

主要功能及特点：

  • 利用高强度聚焦离子束对材料进行纳米加工，可在极低的电压下实现高速率、大束流的样品处理，并保持样品质量；

  • 可实现低于3nm的优异分辨率；

  • 加大样品仓（153 mm）为您提供更多选择；

  • 具有FIB束流自动恢复系统，从而满足长周期实验的需要；

  • 可配合扫描电镜（SEM）等高倍数电子显微镜实时观察，在各种条件下保持高分辨特性，同时获取Inlens SE和Inlens ESB图像，完成纳米级分析、制造。


扫描电镜（SEM）

型号：Sigma 300，Horiba HR320

厂家：德国Zeiss，日本Horiba

主要规格及技术指标：

  1. 扫描电子显微镜分辨率：1.6nm@1KV，1nm@15KV，1nm@30KV；

  2. 存储分辨率：32K×24K；

  3. 最大扫描速度：50ns/像素；

  4. 放大倍率：10~1,000,000×；

  5. 探针电流：3pA-20nA。

主要功能及特点：

  • 利用扫描电镜平台产生高能电子束轰击样品，激发阴极荧光信号，同时利用配套的光谱仪，即可同时获取相应的电子显微和光谱信息；

  • 研究材料中对应于电子显微成像的位错、缺陷以及电子能带结构等诸多重要信息。


电子束刻蚀系统（EBL）

型号：PIONEER Two

厂家：德国Raith

主要规格及技术指标：

  • 最小光刻线宽：≤8nm；

  • 集成了高精度的激光干涉工作台，XY方向定位精度：2nm；拼接套刻精度：≤50nm；

  • 样品台运动行程：50×50×25mm；

  • 热场发射电子枪，加速电压：20V~30kV；

  • 放大倍数：20~1,000,000×。

主要功能及特点：

  • 将专业电子束曝光设备和电子成像系统所有的先进性能，融合成一套独立的成套系统。主要应用于纳米级光刻、高分辨率成像与材料结构分析等。




原子力显微镜(AFM)

型号：Dimension Icon

厂家：美国Bruker

主要规格及技术指标：

  1. X-Y方向扫描范围：典型值：90μm*90μm，最小：85μm；XY方向定位噪音水平闭环控制< 0.15nm。

  2. Z方向扫描范围：典型值：10μm，最小：9.5μm；Z方向噪声水平闭环控制< 0.35 Å。

  3. 电动定位样品台（X-Y轴）：180mm*180mm可视区域；单向2μm重复性；双向3μm重复性。

  4. 显微镜光学系统：五百万像素数字照相机，180μm至1465μm可视范围，数字缩放及自动对焦功能。

主要功能及特点：

  • 可实现样品表面形貌表征，表面物化属性表征；

  • 可对原子和分子进行操纵、修饰和加工，并设计和创造出新的结构和物质；

  • 控制器：NanoScope V型控制器；

  • 工作台：整合所有控制器、结合人体工学设计，提供直接的物理或可视借口；

  • 震动隔绝：整体式气动减震台；

  • 声音隔绝：可隔绝环境中85 dB的持续噪音。


激光图形化直写设备（iGrapher）

型号: iGrapher200

厂家：中国苏大维格

主要规格及技术指标：

  1. 光学分辨率：0.1μm-0.25μm；

  2. 光刻幅面：200mm╳200mm；

  3. 基片尺寸：8" wafer；

  4. 最小线宽：1μm；

  5. 光刻速度：150 – 900 mm2/min。

主要功能及特点：

  • 直写、干涉混合光刻；

  • 专门用于精密微电路、和微纳模具的无掩模光刻，应用于柔性电路、平板显示（OLED）、触控电路、MEMS的光刻工艺、光掩膜制版和微图形模具制备；

  • 3D导航自动聚焦；

  • 并行频闪曝光方式；

  • 高精度气浮直线电机驱动。

光谱式椭偏仪 （SE）

型号: GES5E

厂家：法国Semilab

主要规格及技术指标：

  1. 测试速度：＜1 sec（快速测试模式）；＜120 sec（高分辨率测试模式）；

  2. 测量光谱分辨率：＜0.5nm@633nm（高分辨率测试模式）；＜0.8nm@633nm（快速测试模式）；

  3. 最大样品尺寸：300mm；

  4. 厚度测量范围：0.01nm-50μm；

  5. 厚度测试精度：0.02nm @120nm SiO2 on Si；

  6. 折射率测试精度：0.002 @120nm SiO2 on Si。

主要功能及特点：

  • Semilab针对科研院所和企业研发中心推出的多功能桌面型旗舰产品；

  • 基于椭圆偏振测试技术，采用先进的旋转补偿器；

  • 采用了模块化的设计，可自由组合多种扫描和真空变温样品台，多种从135nm深紫外光谱至2400nm近红外光谱的探测器，多种测试光斑尺寸；

  • 可拓展FTIR红外光谱测试模组、EPA薄膜孔隙率测试模组、涡电流法非接触方块电阻测试模组、Mueller Matrix各项异性材料测试模组、Raman结晶率测试模组、反射干涉测试模组、透射率和反射率测试模组等多种功能。